최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0993659 (2011-12-15) |
등록번호 | US-8980757 (2015-03-17) |
국제출원번호 | PCT/US2011/065079 (2011-12-15) |
§371/§102 date | 20130612 (20130612) |
국제공개번호 | WO2013/089727 (2013-06-20) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 4 |
A method including forming a pattern on a surface of a substrate, the pattern including one of discrete structures including at least one sidewall defining an oblique angle relative to the surface and discrete structures complemented with a material layer therebetween, the material layer including a
1. A method comprising: forming a pattern on a surface of a substrate, the pattern comprising one of discrete structures comprising at least one sidewall defining an oblique angle relative to the surface and discrete structures complemented with a material layer therebetween, the material layer comp
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.