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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0677151 (2012-11-14) |
등록번호 | US-9005539 (2015-04-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 72 인용 특허 : 149 |
A reaction chamber including an upper region for processing a substrate, a lower region for loading a substrate, a susceptor movable within the reaction chamber, a first sealing member positioned on a perimeter of the susceptor, a second sealing member positioned between the upper region and the low
1. A reaction chamber comprising: an upper region for processing a substrate;a lower region for loading a substrate;a susceptor movable within the reaction chamber;a first sealing member positioned on a perimeter of the susceptor;a second sealing member positioned between the upper region and the lo
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