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Method for manufacturing polishing pad 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B29C-044/24
  • B29C-044/32
  • B24B-037/22
  • B24B-037/24
  • B24B-037/26
  • B24D-011/00
  • B29C-044/30
  • B24B-037/20
  • B24D-003/32
  • B24D-018/00
  • B29C-044/56
  • C08J-009/30
출원번호 US-0918341 (2013-06-14)
등록번호 US-9050707 (2015-06-09)
우선권정보 JP-2006-115890 (2006-04-19); JP-2006-115897 (2006-04-19); JP-2006-115904 (2006-04-19); JP-2006-115907 (2006-04-19); JP-2007-088388 (2007-03-29)
발명자 / 주소
  • Fukuda, Takeshi
  • Watanabe, Tsuguo
  • Hirose, Junji
  • Nakamura, Kenji
  • Doura, Masato
출원인 / 주소
  • Toyo Tire & Rubber Co., Ltd.
대리인 / 주소
    Morrison & Foerster LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 25

초록

A method for manufacturing a polishing pad, which may be laminated, with a small number of manufacturing steps, high productivity and no peeling between a polishing layer and a cushion layer includes preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method; continuously dischar

대표청구항

1. A method for manufacturing a laminated polishing pad, comprising the steps of: preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method;feeding a cushion layer in a feeding direction;while feeding the cushion layer, feeding in the feeding direction a first spacer on the cush

이 특허에 인용된 특허 (25)

  1. Stubbs Roy,GBX ; Culler Scott R. ; Liepa Mara E. ; Bange Donna W. ; Haas John D., Abrasive article and method of making such article.
  2. Stubbs Roy,GBX ; Culler Scott R. ; Liepa Mara E. ; Bange Donna W. ; Haas John D., Abrasive article and method of making such article.
  3. Birang, Manoocher; Gleason, Allan, Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations.
  4. Birang, Manoocher; Johansson, Nils; Gleason, Allan, Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations.
  5. Birang, Manoocher; Johansson, Nils; Gleason, Allan, Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations.
  6. Birang Manoocher ; Pyatigorsky Grigory, Apparatus and method for in-situ monitoring of chemical mechanical polishing operations.
  7. Sandhu Gurtej S. (Boise ID) Schultz Laurence D. (Boise ID) Doan Trung T. (Boise ID), Apparatus for endpoint detection during mechanical planarization of semiconductor wafers.
  8. Birang Manoocher ; Gleason Allan ; Guthrie William L., Forming a transparent window in a polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus.
  9. Birang Manoocher ; Gleason Allan ; Guthrie William L., Forming a transparent window in a polishing pad for a chemical mechanical polishing apparatus.
  10. Miller Gabriel L. (Westfield NJ) Wagner Eric R. (South Plainfield NJ), In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection.
  11. Hoopman Timothy L., Method and apparatus for knurling a workpiece, method of molding an article with such workpiece and such molded article.
  12. Birang, Manoocher; Johansson, Nils; Gleason, Allan, Method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations.
  13. Hoopman Timothy L., Method for knurling a workpiece.
  14. Birang Manoocher ; Gleason Allan ; Guthrie William L., Method of forming a transparent window in a polishing pad.
  15. Paul J. Yancey, Method of manufacturing a polymer or polymer/composite polishing pad.
  16. Elledge,Jason B., Methods and systems for planarizing workpieces, e.g., microelectronic workpieces.
  17. Peter W. Freeman ; Stanley E. Eppert, Jr. ; Alan H. Saikin ; Marco A. Acevedo, Polishing pad.
  18. Yaw S. Obeng, Polishing pad having a water-repellant film theron and a method of manufacture therefor.
  19. Tolles, Robert D., Polishing pad with transparent window having reduced window leakage for a chemical mechanical polishing apparatus.
  20. Roberts John V. H. (Newark DE), Polishing pads.
  21. Miyazaki Yoshiaki (Minamitsuru JPX) Mizumura Kazuo (Kawasaki JPX), Polyurethane foam molding.
  22. Sato, Akinori; Hirose, Junji; Nakamura, Kenji; Fukuda, Takeshi; Doura, Masato, Process for manufacturing polishing pad.
  23. Seyanagi, Hiroshi; Inoue, Kaoru; Ogawa, Kazuyuki; Masui, Takashi; Ono, Koichi, Process for producing polyurethane foam.
  24. Robert D. Tolles, Rotatable platen having a transparent window for a chemical mechanical polishing apparatus and method of making the same.
  25. Kaneda, Shunji; Okamoto, Chihiro, Thermoplastic polyurethane foam, process for production thereof and polishing pads made of the foam.
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