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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0918341 (2013-06-14) |
등록번호 | US-9050707 (2015-06-09) |
우선권정보 | JP-2006-115890 (2006-04-19); JP-2006-115897 (2006-04-19); JP-2006-115904 (2006-04-19); JP-2006-115907 (2006-04-19); JP-2007-088388 (2007-03-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 25 |
A method for manufacturing a polishing pad, which may be laminated, with a small number of manufacturing steps, high productivity and no peeling between a polishing layer and a cushion layer includes preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method; continuously dischar
1. A method for manufacturing a laminated polishing pad, comprising the steps of: preparing a cell-dispersed urethane composition by a mechanical foaming method;feeding a cushion layer in a feeding direction;while feeding the cushion layer, feeding in the feeding direction a first spacer on the cush
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