최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0527936 (2012-06-20) |
등록번호 | US-9063437 (2015-06-23) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 56 |
A relief printing form is prepared from a photosensitive element in an environment having controlled oxygen concentration during exposure to actinic radiation. An in situ mask is formed on a photosensitive element, the element is exposed to actinic radiation through the in-situ mask in an environmen
1. A method for preparing a relief printing form from a photosensitive element, comprising the steps of: a) forming an in-situ mask adjacent to a photopolymerizable layer in the photosensitive element, wherein the photopolymerizable layer comprises a binder, an ethylenically unsaturated compound and
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.