최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0072944 (2013-11-06) |
등록번호 | US-9074287 (2015-07-07) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 90 |
Methods and apparatus for isotropically etching a metal from a work piece, while recovering and reconstituting the chemical etchant are described. Various embodiments include apparatus and methods for etching where the recovered and reconstituted etchant is reused in a continuous loop recirculation
1. A method for processing a work piece, comprising: (a) etching copper from a surface of the work piece in a wet chemical etch chamber with a peroxide-based etchant having a pH of approximately 7-11, wherein the etchant comprises an amine-based complexing agent for copper;(b) electrowinning ions of
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.