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Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G11B-005/84
  • C23C-014/56
  • G11B-005/82
출원번호 US-0668390 (2008-07-03)
등록번호 US-9129636 (2015-09-08)
우선권정보 JP-P2007-182528 (2007-07-11)
국제출원번호 PCT/JP2008/062058 (2008-07-03)
§371/§102 date 20100527 (20100527)
국제공개번호 WO2009/008324 (2009-01-15)
발명자 / 주소
  • Kurokawa, Gohei
출원인 / 주소
  • SHOWA DENKO K.K.
대리인 / 주소
    Sughrue Mion, PLLC
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 9

초록

The present invention provides a method for manufacturing a magnetic recording medium by mounting a substrate for film formation on a carrier, sequentially transporting said substrate into a plurality of connected chambers, and forming at least a magnetic film and a carbon protective film on said su

대표청구항

1. A method for manufacturing a magnetic recording medium by mounting a substrate for film formation on a carrier whose surface has been roughened, sequentially transporting said substrate into a plurality of connected chambers, and forming at least a magnetic film and a carbon protective film on sa

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Kosky Philip G. (Schenectady NY) Slutz David E. (Columbus OH) Knemeyer Friedel S. (Granville OH), Apparatus for chemical vapor deposition of diamond including graphite substrate holders.
  2. Benvenuti, Cristoforo, Arrangement and method for improving vacuum in a very high vacuum system.
  3. Nakamura Kyuzo (Chiba JPX) Ishikawa Michio (Chiba JPX) Ito Kazuyuki (Chiba JPX) Tani Noriaki (Chiba JPX) Hashimoto Masanori (Chiba JPX) Ota Yoshifumi (Chiba JPX), Chemical vapor deposition apparatus of in-line type.
  4. Kisakibaru Toshiro (Tokyo JPX) Kojima Akira (Kanagawa JPX) Fukunaga Takayuki (Tokyo JPX) Hata Yoshinori (Kanagawa JPX) Kato Yasushi (Kanagawa JPX) Honbori Isao (Kanagawa JPX) Jozaki Tomohide (Kanagaw, Method and system for plasma treatment.
  5. Conte,Andrea; Moraja,Marco, Multilayer getter structures and methods for making same.
  6. Lu, Jean Qing; Tobin, Jeffrey Andrew; Stenzel, Linda Lee; Pham, Lananh, Pasting method for eliminating flaking during nitride sputtering.
  7. Demaray Richard E. (Oakland CA) Helmer John C. (Menlo Park CA) Anderson Robert L. (Palo Alto CA) Park Young H. (San Ramon CA) Cochran Ronald R. (Mountain View CA) Hoffman ; Jr. Vance E. (Los Altos CA, Rotating sputtering apparatus for selected erosion.
  8. Watanabe Naoki,JPX ; Watabe Osamu,JPX ; Hayashida Hideki,JPX, Thin film deposition apparatus.
  9. Watanabe Naoki,JPX ; Watabe Osamu,JPX ; Hayashida Hideki,JPX, Thin film deposition apparatus.
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