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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0580787 (2014-12-23) |
등록번호 | US-9224624 (2015-12-29) |
우선권정보 | JP-2010-113186 (2010-05-17); JP-2011-065807 (2011-03-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 3 |
A liquid processing method is provided for performing a liquid process on a front surface of a substrate by using a processing solution and then performing a rinse process on the front surface of the substrate by using a rinse solution having a temperature lower than a temperature of the processing
1. A liquid processing method for performing a liquid process on a front surface of a substrate by using a processing solution and then performing a rinse process on the front surface of the substrate by using a first rinse solution and a second rinse solution having a temperature lower than a tempe
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