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Gas distribution system for ceramic showerhead of plasma etch reactor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-037/32
  • C23C-016/453
  • H01L-021/67
  • H01L-021/311
  • B01F-015/02
  • C23C-016/455
  • H01L-021/3065
출원번호 US-0118933 (2011-05-31)
등록번호 US-9245717 (2016-01-26)
발명자 / 주소
  • Kang, Michael
  • Paterson, Alex
출원인 / 주소
  • LAM RESEARCH CORPORATION
대리인 / 주소
    Buchanan, Ingersoll & Rooney PC
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 19

초록

A gas delivery system for a ceramic showerhead includes gas connection blocks and a gas ring, the gas connection blocks mounted on the gas ring such that gas outlets in the blocks deliver process gas to gas inlets in an outer periphery of the showerhead. The gas ring includes a bottom ring with chan

대표청구항

1. A gas delivery system useful for supplying process gas to a ceramic showerhead for an inductively coupled plasma processing apparatus wherein semiconductor substrates supported on a substrate support are subjected to plasma etching, the ceramic showerhead including radially extending gas inlets e

이 특허에 인용된 특허 (19)

  1. Granneman, Ernst H. A., Apparatus and method for atomic layer deposition on substrates.
  2. Markulec Jeffrey R. ; Rex Dennis G. ; Schuster Richard E. ; Elliot Brent D., Building blocks for integrated gas panel.
  3. Kearney, Michael M, Fractal device for mixing and reactor applications.
  4. Kearney, Michael M.; Peterson, Kenneth R.; Mumm, Michael W., Fractal stack for scaling and distribution of fluids.
  5. Rajinder Dhindsa ; Fangli Hao ; Eric Lenz, Gas distribution apparatus for semiconductor processing.
  6. Gondhalekar, Sudhir; Duncan, Robert; Salimian, Siamak; Rasheed, Muhammad M.; Whitesell, Harry Smith; Geoffrion, Bruno; Krishnaraj, Padmanabhan; Gujer, Rudolf; Gujer, legal representative, Diana E., Gas distribution system for improved transient phase deposition.
  7. Huang, Zhisong; Sam, Jose Tong; Lenz, Eric H.; Dhindsa, Rajinder; Sadjadi, Reza, Gas distribution system having fast gas switching capabilities.
  8. McMillin Brian ; Nguyen Huong ; Barnes Michael ; Ni Tom, Gas injection system for plasma processing.
  9. Ni, Tuqiang; Demos, Alex, Gas injection system for plasma processing.
  10. Kugler Eduard (Feldkirch-Tisis ATX) Stock Jakob (Mastrils CHX) Rudigier Helmut (Bad Ragaz CHX), Gas inlet arrangement.
  11. Milburn,Matthew L.; Wier,Bruce C., Gas-panel assembly.
  12. Chandrachood, Madhavi R.; Grimbergen, Michael N.; Nguyen, Khiem K.; Lewington, Richard; Ibrahim, Ibrahim M.; Panayil, Sheeba J.; Kumar, Ajay, Mask etch plasma reactor with variable process gas distribution.
  13. Berrian Donald W. ; Kaim Robert ; Pollock John D., Method and apparatus for flowing gases into a manifold at high potential.
  14. Smith,David A.; Barone,Gary A.; Higgins,Martin E.; Kendall,Bruce R. F.; Lavrich,David J., Method for chemical vapor deposition of silicon on to substrates for use in corrosive and vacuum environments.
  15. McMillin Brian ; Nguyen Huong ; Barnes Michael ; Berney Butch, Method for high density plasma chemical vapor deposition of dielectric films.
  16. Laermer Franz (Stuttgart DEX) Schilp Andrea (Schwbisch Gmnd DEX), Method of anisotropically etching silicon.
  17. Kiermasz,Adrian; Pandhumsoporn,Tamarak; Cofer,Alferd, Methods and apparatus for sequentially alternating among plasma processes in order to optimize a substrate.
  18. Kearney,Michael M.; Peterson,Kenneth R.; Valesquez,Lawrence, Shallow bed fluid treatment apparatus.
  19. Mannino Anthony, Split ring closure for cylindrical drum.

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Kang, Michael; Paterson, Alex; Kenworthy, Ian J., Gas distribution showerhead for inductively coupled plasma etch reactor.
  2. Rozenzon, Yan; Tantiwong, Kyle; Yousif, Imad; Knyazik, Vladimir; Keating, Bojenna; Banna, Samer, Multi-zone gas injection assembly with azimuthal and radial distribution control.
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