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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0527714 (2014-10-29) |
등록번호 | US-9272389 (2016-03-01) |
우선권정보 | JP-2013-228240 (2013-11-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 5 |
A polishing apparatus capable of monitoring an accurate progress of polishing is disclosed. The polishing apparatus includes: a polishing table for supporting a polishing pad; a table motor configured to rotate the polishing table; a top ring configured to press a substrate against the polishing pad
1. A polishing apparatus comprising: a polishing table for supporting a polishing pad;a table motor configured to rotate the polishing table;a top ring configured to press a substrate against the polishing pad to polish the substrate;a dresser configured to dress the polishing pad while oscillating
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