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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0242552 (2011-09-23) |
등록번호 | US-9403130 (2016-08-02) |
우선권정보 | JP-2010-067812 (2010-03-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 3 |
A simple method of manufacturing a silica membrane which has high separation performance and high permeation flux is provided. The method is a method for manufacturing a silica membrane by depositing a silica sol on a porous substrate, drying the silica sol by air blowing which has a dew point of -7
1. A method of manufacturing a silica membrane, comprising: depositing a silica sol on a porous substrate;drying the silica sol by blowing air, the air having a dew point of −70 to 0° C.; andfiring the dried silica sol and porous substrate thereafter so as to form a silica membrane,wherein the air i
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