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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0971537 (2013-08-20) |
등록번호 | US-9453139 (2016-09-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 27 |
Hot melt compositions include non-aromatic cyclic (alkyl)acrylates and low acid number waxes. Upon application of actinic radiation, the hot melt compositions cure to form resists. They may be stripped from substrates with high alkaline strippers. The hot melt compositions may be used in the manufac
1. A hot melt composition comprising one or more non-aromatic cyclic (alkyl)acrylates, one or more waxes comprising an acid number of 0 to 30 mg KOH/g, wherein the one or more waxes comprising an acid number of 0 to 30 mg KOH/g are chosen from candelilla waxes, esterified montan waxes, ozokerite wax
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