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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0482761 (2014-09-10) |
등록번호 | US-9484183 (2016-11-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 4 |
An ion implantation apparatus including an enclosure defining a process chamber, a carriage slidably mounted on a shaft within the process chamber and coupled to a drive mechanism adapted to selectively move the carriage along the shaft. A platen assembly can be coupled to the carriage, and a linkag
1. An ion implantation apparatus comprising: an enclosure defining a process chamber;a carriage slidably mounted on a shaft within the process chamber and coupled to a drive mechanism adapted to selectively move the carriage along the shaft;a platen assembly coupled to the carriage; anda linkage con
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