최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0622291 (2015-02-13) |
등록번호 | US-9507262 (2016-11-29) |
우선권정보 | JP-2014-026586 (2014-02-14) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 11 |
There are provided a top coat composition and a patterning process using that composition, which reduce the effect of contaminants in the surrounding atmosphere on the resist film in absorbing OOB light and in reducing film loss of the resist pattern and bridging between patterns, and also enhances
1. A resist top coat composition, used in a patterning process by lithography in which a photoresist film on a wafer is top coated with the top coat composition, and then exposed and developed, wherein the resist top coat composition contains: a polymer as a base resin having a repeating unit p of s
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.