최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0449811 (2014-08-01) |
등록번호 | US-9607889 (2017-03-28) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 1 인용 특허 : 217 |
Method and apparatus for direct writing of passive structures having a tolerance of 5% or less in one or more physical, electrical, chemical, or optical properties. The present apparatus is capable of extended deposition times. The apparatus may be configured for unassisted operation and uses sensor
1. A maskless method of depositing a via, the method comprising the steps of: aerosolizing a material;focusing the aerosolized material into a hole in an intermediate circuit layer having a top surface, the hole comprising one or more side walls connected to the to surface;depositing the aerosolized
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.