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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0362349 (2016-11-28) |
등록번호 | US-9637386 (2017-05-02) |
우선권정보 | JP-2010-188608 (2010-08-25) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 3 |
A graphite film which is low in graphite dust generation can be produced by properly selecting acid dianhydride and diamine which constitute a polyimide film, which polyimide film is a raw material of the graphite film. Specifically, the graphite film which is low in graphite dust generation can be
1. A process for producing a graphite film, the process comprising: carrying out a thermal treatment on a polyimide film at a temperature equal to or more than 2600° C., the polyimide film having been obtained by causing a reaction with acid dianhydride (1) and diamine (2), the acid dianhydride (1)
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