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CVI densification installation including a high capacity preheating zone 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/46
  • C23C-016/458
  • C23C-016/455
  • F28C-003/00
  • C04B-035/80
  • B01J-006/00
  • B01J-008/02
  • F28F-013/06
  • C23C-016/452
  • F27B-005/16
  • F27D-007/06
  • C23C-016/04
  • F27D-099/00
  • F28F-003/08
  • F28D-021/00
출원번호 US-0125854 (2015-03-05)
등록번호 US-9845534 (2017-12-19)
우선권정보 FR-1452151 (2014-03-14)
국제출원번호 PCT/FR2015/050546 (2015-03-05)
국제공개번호 WO2015/136193 (2015-09-17)
발명자 / 주소
  • Delperier, Bernard
  • Potin, Jean-François
  • Soulignac, Sophie
출원인 / 주소
  • HERAKLES
대리인 / 주소
    Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 7

초록

A thermochemical treatment installation includes a reaction chamber, at least one gas inlet, and a gas preheater chamber situated between the gas inlet and the reaction chamber. The preheater chamber has a plurality of perforated distribution trays held spaced apart one above another. The preheater

대표청구항

1. A thermochemical treatment installation comprising: a reaction chamber;at least one gas inlet; anda gas preheater chamber situated between the at least one gas inlet and the reaction chamber, said gas preheater chamber having a plurality of perforated distribution trays held spaced apart one abov

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Vaudel Serge (Teuillac FRX), Apparatus for preheating a flow of gas in an installation for chemical vapor infiltration, and a densification method us.
  2. Rudolph James W. (Colorado Springs CO) Purdy Mark J. (Akron OH) Bok Lowell D. (Anna OH), Apparatus for use with CVI/CVD processes.
  3. Rudolph James Warren ; Stevens Scott William, Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid.
  4. Sion, Eric; Baudry, Yvan, Gas preheater and process for controlling distribution of preheated reactive gas in a CVI furnace for densification of porous annular substrates.
  5. Fiala, Robert; Rudolph, James W.; Garn, Dennis T.; Lee, Jerry S., Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace.
  6. Rudolph James Warren, Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace.
  7. Christin Fran.cedilla.ois,FRX ; Daubigny Pierre,FRX ; Delaurens Pierre,FRX ; Leluan Jean-Luc,FRX, Vapour phase chemical infiltration process for densifying porous substrates disposed in annular stacks.
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