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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0742599 (2013-01-16) |
등록번호 | US-9909809 (2018-03-06) |
우선권정보 | JP-2012-011203 (2012-01-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 13 |
The heat treatment apparatus includes: a processing chamber which accommodates a processing object; a heating unit which heats the processing object accommodated in the processing chamber; a temperature detecting unit which detects an internal temperature of the processing chamber; and a controller
1. A heat treatment apparatus comprising: a processing chamber which accommodates a processing object;a heating unit which heats the processing object accommodated in the processing chamber;a temperature detecting unit which detects an internal temperature of the processing chamber; anda controller
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