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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0200282 (2016-07-01) |
등록번호 | US-10106424 (2018-10-23) |
우선권정보 | KR-10-2015-0159466 (2015-11-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 1 |
A method of preparing silicon using silica includes placing silica in a reaction chamber; adding a reducing agent into the reaction chamber; feeding a material for impact into the reaction chamber and sealing the reaction chamber; and reducing the silica to silicon by allowing the material for impac
1. A method of preparing silicon using silica, the method comprising: placing silica in a reaction chamber;adding a reducing agent into the reaction chamber;feeding a material for impact into the reaction chamber and sealing the reaction chamber; andreducing the silica to silicon by allowing the mat
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