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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | KR-0011600 (2012-12-27) |
공개번호 | WO-0100644 (2013-07-04) |
우선권정보 | KR-20110144668 (2011-12-28); KR-20120154499 (2012-12-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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The present invention relates to an etching-solution composition, and the etching-solution composition according to one embodiment of the present invention comprises 3-20 weight% hydrofluoric acid, 5-40 weight% nitric acid, 10-60 weight% acetic acid, and 2-20 weight% a catalyst, with the remainder b
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