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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A2 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0032177 (2015-05-22) |
공개번호 | WO-0187389 (2015-12-10) |
우선권정보 | US-201462002539 (2014-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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The disclosure relates to microwave cavity plasma reactor (MCPR) apparatus and associated tuning and process control methods that enable the microwave plasma assisted chemical vapor deposition (MPACVD) of a component such as diamond. Related methods enable the control of the microwave discharge posi
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