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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0075752 (2016-09-02) |
공개번호 | WO-0047400 (2017-03-23) |
우선권정보 | JP-2015181336 (2015-09-15) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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Disclosed is a dry etching method which is characterized by comprising: a first step wherein a pretreatment gas that contains a mixed gas of a halogen-containing substance containing fluorine or chlorine and nitrogen monoxide (NO) and at least one substance selected from the group consisting of nitr
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