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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | KR2019/000440 (2019-01-11) |
공개번호 | 2019/139395 (2019-07-18) |
우선권정보 | 10-2018-0003732 (2018-01-11) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A source matcher of the present invention may comprise: an RF oscillator unit for applying power for plasma generation to a plurality of coils installed in a chamber; an RF matcher unit for matching a load impedance to the characteristic impedance of at least one of the chamber, the RF oscillator un
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