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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | KR2019/001062 (2019-01-25) |
공개번호 | 2019/156400 (2019-08-15) |
우선권정보 | 10-2018-0015715 (2018-02-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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An organometallic compound and a thin film using same of the present invention have high volatility, excellent chemical and thermal stability, and a remarkably improved thin film deposition rate even at low temperatures. In addition, it is possible to realize a thin film having improved property deg
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