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NTIS 바로가기등록일자 | 2006-07-06 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=3d10fb0a425441ad95898325469a8213&fileSn=1&bbsId= |
○ 본문에서는 유기 분자나 고분자의 박막 중 분자를 일정 방향으로 배향하기 위해 PTFE(Poly-Tetra-Fluoro-Ethylene)에 마찰전사법을 이용하였다. 과거부터 이용되어온 PVD(Physical Vapor Deposition)법은 박막 형성에 이용되어온 방법으로 저온처리로 비교적 간단히 박막을 형성할 수 있기 때문에 최근 표면 강화수단으로 많이 이용되고 있다.
○ PVD법은 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), 이온을 이용하는 스퍼터링(sputtering), 이온 주입(ion im
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