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NTIS 바로가기등록일자 | 2010-02-11 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=d44223cb82604aaaa20de96495278875&fileSn=1&bbsId= |
○ X선관은 고체를 투과하는 정도가 물체에 따라 다르기 때문에 의료분야나 결정물질의 구조를 검사하는데 이용되고 있다. X선관은 전자발생장치인 가열 필라멘트로 된 음극과 일반적으로 텅스텐으로 된 양극이 유리관 내부에 설치되어 있다. X선관은 고속으로 운동하는 전자가 단단한 물질에 충돌하면 X선이 발생하는 원리를 이용한 것이다.
○ X선관 필라멘트에서 발생한 전자는 타깃에 충돌한 후 굴절되어 검사 물체를 투과하여 필름에 영상을 형성한다. 대부분의 전자는 타깃과 충돌한 후 에너지를 잃고 타깃에 흡수되고 일부는
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