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NTIS 바로가기등록일자 | 2011-06-13 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=60e37f91d77e47bf95eb8dd578676dc3&fileSn=1&bbsId= |
○ MEMS/NEMS(Micro-/Nano-Electro Mechanical System)는 중공구조를 형성하므로 희생층의 에칭이 필수적이나, 에칭이나 그 후의 세정, 건조 중에 여러 유착(Stinction)이 일어난다. 반도체 집적회로(LSI)에서도 미세화의 진전과 함께 배선의 선폭이 수십 나노미터 수준으로 가늘어지므로 회로 패턴을 형성하는 구조체의 기계적 강도가 현저하게 약화된다. 이 때문에 비교적 아스펙트비가 큰 포토레지스트나 회로 패턴 등의 미세구조가 세정, 건조 시에 도괴되는 현상(Pattern Collapse)이 자주
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