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NTIS 바로가기등록일자 | 2016-12-07 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=fb0bd45ed389460387cf02d1f100c62d&fileSn=1&bbsId= |
○ Cf/SiC 두꺼운 다공성 박막은 테이프 캐스팅에 의해 제조되며 고밀도 Si/SiC 코팅은 Cf/SiC 박막 테이프 속으로 실리콘을 주입하므로 성공적으로 제조되었다. 10∼20㎛ 두께의 중간층은 액체 Si과 카본사이 반응으로 제조되어 강한 결합을 이룬다. Si/SiC의 HV 강도와 표면요철은 각각 16.29 ± 0.53GPa와 2.164nm으로 우수한 강도와 요철 특성을 나타낸다. 낮은 표면요철 특성으로 우주광학에 적용이 기대된다. ○ Cf/SiC 기판위에 제조된 Si/SiC의 표면은 2.164nm의 대단히 낮은
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