초록 ▼

CVD법,양극산화법 및 졸겔법에 의한 세라믹스 박막의 제조실험을 통하여 다음과 같은 결론을 얻었다.
1) CVD법에 의한 Al$_{2}$O$_{2}$박막제조에서 치밀한 박막은 기체 유량속도가 2.0${\ell}$/min일 때 가능하며 반응영역은 ${\pm}$1cm 정도였다. 증착속도가 70-80${\AA}$범위였고,증착 이전의 핵생성에 요구되는 Incubation time은 부위에 따라 달랐으며,박막의 부식속도는 약 145

CVD법,양극산화법 및 졸겔법에 의한 세라믹스 박막의 제조실험을 통하여 다음과 같은 결론을 얻었다.
1) CVD법에 의한 Al$_{2}$O$_{2}$박막제조에서 치밀한 박막은 기체 유량속도가 2.0${\ell}$/min일 때 가능하며 반응영역은 ${\pm}$1cm 정도였다. 증착속도가 70-80${\AA}$범위였고,증착 이전의 핵생성에 요구되는 Incubation time은 부위에 따라 달랐으며,박막의 부식속도는 약 145${\AA}$/sec 정도였다.
2) 양극산화된 Al$_{2}$O$_{3}$박막은 비정질이며,TiO$_{2}$와 Ta$_{2}$O(low 5)박막은 결정상이며,옥살산에서 양극산화된 박막은 다공성이다. 박막의 정전용량은 두께가 두꺼워질수록 주파수와 온도에 안전한 특성을 나타낸다.
3) 졸겔법에 의한 BaTiO$_{3}$박막제조에서 Ba(OH)$_{2}$.8H$_{2}$O와 Ti(OC$_{3}$H(low 7))$_{4}$의 공동용매로는 C.S.와 메틸알콜이 좋으며 A.A.가 첨가되면 BaTiO$_{3}$ 결정상 형성이 저온에서 이뤄진다. 그러나 형성기구는 균일한 박막의 제조 및 전기적 특성과 그 응용성에 관한 많은 미해결 과제가 있으며,이러한 연구를 수행하기 위해 계속적인 지원이 있어야 할 것이다.

목차 Contents

• 제1장 서론...13
• 제2장 문헌조사...15
• 제1절 세라믹 박막의 형성방법...15
• 제2절 CVD법에 의한 박막제조 및 응용...32
• 제3절 양극산화법에 의한 박막제조 및 응용...40
• 제4절 졸-겔법에 의한 박막제조 및 응용...60
• 제3장 실험방법...71
• 제1절 CVD법에 의한 박막제조 및 측정...71
• 제2절 양극산화법에 의한 박막제조 및 측정...74
• 제3절 졸-겔법에 의한 박막제조 및 측정...79
• 제4장 결과 및 고찰...82
• 제1절 CVD법에 의한 박막...82
• 제2절 양극산화법에 의한 박막...91
• 제3절 졸-겔법에 의한 박막...116
• 제5장 결론 및 제언...139
• 제1절 결론...139
• 제2절 제언...140
• 참고문헌...142