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고온 초전도체를 이용한 반도체배선 및 죠셉슨 컴퓨터 소자 개발(I) - 재료, 후막, 박막의 제조 -
Development of Semiconductor Interconnection and Josephson Computer Device using High Tc Superconductor (I) -Materials, Thick Film, and Thin Film- 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국표준연구소
Korea Research Institute of Standards and Science
연구책임자 박신종
참여연구자 황인덕 , 황호병 , 고인수 , 윤선진
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1988-05
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국전자통신연구원
Electronics and Telecommunications Research Institute
등록번호 TRKO200200001773
DB 구축일자 2013-04-18

초록

일차년도의 연구 내용 및 범위는 다음과 같다. \\\ 고온 초전도체 재료의 합성 \\\ YBaCuO, BiSrCaCuO, TiBaCaCuO의 초전도체를 고상반응법으로 합성하고 최적 제조조건을 조사함. \\\ YBaCuO 초전도 후막을 Screen Printing법으로 제조함. \\\ \\\ YBaCuO 초전도 박막을 Sputtering법으로 제조함. \\\

목차 Contents

  • 서론...12
  • 참고문헌...13
  • 제1장 고온 초전도체 Bulk 제조...14
  • 제1절 Y-Ba-Cu-O계 초전도체 제조...15
  • 1. 제조방법...15
  • 2. 초전도 현상의 확인...16
  • 3. XRD(X-ray Diffraction)을 이용한 결정분석...20
  • 제2절 Ti-Ba-Ca-Cu-O계 초진도체 제조...20
  • 1. 제조방법...20
  • 2. 비저항 및 X선 회절 실험...21
  • 참고문헌...25
  • 제2장 Screen Printing 방법에 의한 Y-Ba-Cu-O계 후막 제조...26
  • 제1절 서론...27
  • 제2절 후막제조...27
  • 1. Paste...27
  • 2. Printing...28
  • 3. Substrate...28
  • 4. Drying Sample...28
  • 5. Sintering...30
  • 제3절 결과 및 토의...30
  • 제4절 요약 및 실험 전망...41
  • 참고문헌...42
  • 제3장 DC sputtering 에 의한 고온 초전도체 박막 제조 및 특성조사...43
  • 제1절 DC sputtering 장치의 제작...44
  • 제2절 고온 초전도체 박막의 제조과정 및 결과...45
  • 제3절 resputtering 효과 연구...52
  • 제4절 죠셉슨 소자의 마스크 제작...61
  • 참고문헌...64

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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