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[국가R&D연구보고서] 고온초전도체를 이용한 반도체배선 및 죠셉슨컴퓨터 소자의개발(2차년도)
Research on the semiconducting and Josephson computer devices using High-Tc superconductor 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국표준연구소
Korea Research Institute of Standards and Science
연구책임자 박종철
참여연구자 박신종 , 황호병 , 강광용 , 황인덕 , 유형준 , 김종문 , 권정국
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1989-07
주관부처 과학기술부
과제관리전문기관 한국전자통신연구원
Electronics and Telecommunications Research Institute
등록번호 TRKO200200002517
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 초전도박막.죠셉슨소자.스퍼터링.사건 인쇄 기술 및 식각.저항성 접촉.초전도 배선.고주파 현상.SUPERCONDUCTING THIN FILM.JOSEPHSON DEVICE.SPUTTERING.PHOTOLITHOGRAPHY AND ETCHING CHMIC CONTACT.SUPERCINDUCTING INTERCONNECTION.MICROWAVE-PROPAGATION PHENOMERNA.

초록

산화물 고온 초전도체의 응용사 액체 질소 이상에서 운용되므로 경제적이고, 초전도체의 고유특성을 이용하면 정보통신, 수송, 에너지등의 전산업분야에 혁명을 가져올수 있다. 실제로 고온초전도체 응용분야에서 가장 기대되는 것이 ELECTRONICS 소자이다. 이와 같은 소자를 제작하기 위한 선결 조건이 고품질 초전도박막 제조이며 현재 각국에서 촌각을 다투며 보력하고 있고, 그 결과 많은 성과도 있으며 본 연구를 수행하는 동안 소기의 성과도 거두고 있다. 2차년도 과제에서는 양질의 고온 초전도체 박막을 제조한 후 SEM, XRD, ESCA,

목차 Contents

  • 제 1 장 서 론...19
  • 제 2 장 박막성능향상연구...21
  • 제1절 서론...22
  • 제2절 본론...29
  • 제3절 결론...44
  • 제 3 장 포토리소그라피 및 예침특성조사...48
  • 제1절 개요...48
  • 제2절 본 론...51
  • 제 4 장 저항성접촉의 특성조사...59
  • 제1절 개요...59
  • 제2절 실 험...60
  • 제3절 결과...61
  • 제5장 배선특성측정용 기본테스트 패턴설계...64
  • 제1절 서론...64
  • 제2절 본론...65
  • 제3절 결론...73
  • 참고문헌...75

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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