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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국표준연구소 Korea Research Institute of Standards and Science |
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연구책임자 | 박종철 |
참여연구자 | 박신종 , 황호병 , 강광용 , 황인덕 , 유형준 , 김종문 , 권정국 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1989-07 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
등록번호 | TRKO200200002517 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 초전도박막.죠셉슨소자.스퍼터링.사건 인쇄 기술 및 식각.저항성 접촉.초전도 배선.고주파 현상.SUPERCONDUCTING THIN FILM.JOSEPHSON DEVICE.SPUTTERING.PHOTOLITHOGRAPHY AND ETCHING CHMIC CONTACT.SUPERCINDUCTING INTERCONNECTION.MICROWAVE-PROPAGATION PHENOMERNA. |
산화물 고온 초전도체의 응용사 액체 질소 이상에서 운용되므로 경제적이고, 초전도체의 고유특성을 이용하면 정보통신, 수송, 에너지등의 전산업분야에 혁명을 가져올수 있다. 실제로 고온초전도체 응용분야에서 가장 기대되는 것이 ELECTRONICS 소자이다. 이와 같은 소자를 제작하기 위한 선결 조건이 고품질 초전도박막 제조이며 현재 각국에서 촌각을 다투며 보력하고 있고, 그 결과 많은 성과도 있으며 본 연구를 수행하는 동안 소기의 성과도 거두고 있다. 2차년도 과제에서는 양질의 고온 초전도체 박막을 제조한 후 SEM, XRD, ESCA,
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