초록 ▼

근래 첨단 산업 육성이 시급해짐에 따라 반도체 소재, 신기 농박막 소재 등 신소재 연구가 활발히 진행되고 있으나, 이둘 소재 평가 및 공정관리에 요구되는 정밀 표면 분석기술은 상대적으로 낙후되어 있는 실정이다. 입자 가속기를 이용한 백만 전자 볼트급 이온빔 분석법은 표면 적층 분석, 미량원소 분석, 경원소 분석등의 종합분석 특성으로 인하여 특히 박막소재평가에 유용한 분석법중의 하나로 알려져 있다. 본 연구는 이용빔 분석법 중에서도 특히, 비파괴, 절대 측정에 의한 표면 분석 기술인 RBS분석법의 개발 및 실용화를 목표로 하며, 실용

근래 첨단 산업 육성이 시급해짐에 따라 반도체 소재, 신기 농박막 소재 등 신소재 연구가 활발히 진행되고 있으나, 이둘 소재 평가 및 공정관리에 요구되는 정밀 표면 분석기술은 상대적으로 낙후되어 있는 실정이다. 입자 가속기를 이용한 백만 전자 볼트급 이온빔 분석법은 표면 적층 분석, 미량원소 분석, 경원소 분석등의 종합분석 특성으로 인하여 특히 박막소재평가에 유용한 분석법중의 하나로 알려져 있다. 본 연구는 이용빔 분석법 중에서도 특히, 비파괴, 절대 측정에 의한 표면 분석 기술인 RBS분석법의 개발 및 실용화를 목표로 하며, 실용화 이전에 요구되는 시스템 구성 및 특성 조사, 표준 시료에 의한 시스템 검.교정등 1차년도 연구에 이어 최종년도인 2차년도에는 최적 표면 분석 조건 도출, 스펙트럼 해석법 보완, 체널링 연구, 탄성 고명산란 이용 분석법 개발등 표면 분석법 실용화 연구를 주 목적으로 하였다. 2개년도에 걸친 RBS 및 채널링 분석법 연구에 의하여 비파괴 절대 측정에 의한 표면 분석법이 실용화 됨으로서 반도체, 비파괴 절대측정에 의한 표면 분석법이 실용화됨으로서 반도체, 초전도체, 초경공구장 및 기타 박막소재 연구와 단결정 시료의 구조해석에 요구되는 제반 분석 지원에 활용하여 연관분야의 활성화에 기여할 것이다.

목차 Contents

• 제1장 서론...17
• 제2장 본론...19
• 제1절 원리...19
• 1.최적분석감도...19
• 2.밀도구배가 있는 시료의 스펙트럼 해석...23
• 3.챈널링...24
• 3.1 정렬과정과 물리적 계수...25
• 3.2 챈널링현상의 이용...28
• 4.탄성공명산란분석법...32
• 4.1 O(α,α) O 탄성공명산란반응에 관한 변수 결정...34
• 4.2 얇은 산화막층 분석의 원리...37
• 제2절 장치 및 실험...38
• 1.표적함개선과 챈널링시스템의 구성...38
• 2.적층다성분시료의 분석...41
• 2.1 하전입자 검출계통의 에너지 교정...41
• 2.2 절류적산계의 일상적인 점검...42
• 2.3 적층다원소시료의 분석...43
• 3.챈널링 실험...44
• 4.탄성공명산란을 이용한 산화막 분석...44
• 4.1 탄성공명산란의 변수결정...44
• 4.2 알루미늄산화막 분석...47
• 제3절 결과 및 논의...49
• 1.표적함 및 계측제어부의 개선...49
• 2.적층다성분시료 분석...52
• 2.1 계측시스템의 에너지교정 및 정량성 확인...52
• 2.2 적층다성분시료의 분석...54
• 3.밀도구배가 있는 시료 분석...59
• 4.챈널링현상을 이용한 분석...61
• 5.알루미늄 자연산화막 분석...66
• 5.1 탄성공명산란 변수...66
• 5.2 Al 산화막층의 분석...69
• 제3장 결론...71
• 참고문헌...73