초록 ▼

ㅇ 연구개발 목표 및 내용 1. Hemi-confocal 공진기 및 Plane-paravel 공진기 구성 - 협대역 파장 가변 XeCl 레이저 개발 (0.5pm선폭, 250pm 파장기변 가능) - XeCl 레이저빔의 Vibrational Mode 분리 (307.91nm, 307.94nm, 308.14nm, 308.17nm. 308.19nm2. 다중 간섭무늬 분석에 의한 중심 파장 안정화 방법 개발 - F-P 간섭무늬에서 첫 번째 링과 두 번째 링의 세기 비교 및 시간적 변화로부터 FP 에탈론을 조정함.3. 비정질 반도체 재

ㅇ 연구개발 목표 및 내용 1. Hemi-confocal 공진기 및 Plane-paravel 공진기 구성 - 협대역 파장 가변 XeCl 레이저 개발 (0.5pm선폭, 250pm 파장기변 가능) - XeCl 레이저빔의 Vibrational Mode 분리 (307.91nm, 307.94nm, 308.14nm, 308.17nm. 308.19nm2. 다중 간섭무늬 분석에 의한 중심 파장 안정화 방법 개발 - F-P 간섭무늬에서 첫 번째 링과 두 번째 링의 세기 비교 및 시간적 변화로부터 FP 에탈론을 조정함.3. 비정질 반도체 재결정화 기술 - 엑시머레이저빔을 이용하여 5cm x 5cm 비정질 반도체의 재결정화 기술 개발 (400℃ 기판온도, 300mJ/㎠)로 일차원 빔제어로 scaning기술 및 장치 개발 ㅇ 연구결과1. 협대역 파장 가변 XeCl 레이저 개발 (Hemi-confocal 공진기) - 0.5pm 선폭, 250pm 라장 가변 대역폭2. 다중 간섭무늬 분석에 의한 중심 파장 안정화 방법 개발3. 5cm x 5cm 비정질 반도체의 재결정화 기술 개발 - 0.5pm 스펙트럼폭 달성

목차 Contents

• 제1장 서설...13
• 제2장 파장 가변형 협대역 XeC1 엑시머 레이저의 제작및 특성...16
• 제1절 서론...16
• 제2절 Spectrum 특성 측정장치의 설계및 제작...18
• 1. Wavemeter의 구조및 특성...18
• 2. linewidth의 측정...22
• 3. 측정장치...26
• 제3절 선폭 협소화 장치및 파장 가변 장치의 설계및 제작...32
• 1. Grating에 의한 선폭 축소...32
• 2. Fabry-Perot 에탈론에 의한 선폭 축소...38
• 3. 좁은 선폭을 갖는 tunable XeC1 엑시머 레이저 공진기의 제작및 특성 측성...40
• 제4절 선폭 협소화된 XeC1 레이저의 wavelength shift 특성...57
• 참고문헌...72
• 제3장 엑시머 레이저의 응용 연구...73
• 제1절 광섬유 격자의 제조...73
• 1. 광섬유 격자의 역사적배경과 일반적특성...73
• 2. 광섬유 격자의 응용분야...78
• 3. 회절형 광학 위상마스크 설계및 광섬유내 격자 제조 실험...84
• 참고문헌...87
• 제2절 엑시머 레이저 어닐링에 의한 비정질 실리콘의 결정화...90
• 1. 레이저 어닐링의 역사적 배경...90
• 2. 이론적 배경...93
• 3. 비정질 실리콘의 레이저 결정화 실험...96
• 참고문헌...110