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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한양대학교 HanYang University |
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연구책임자 | 이재성 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1984-09 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한양대학교 HanYang University |
등록번호 | TRKO200200011508 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
W-Cu계 전기 접점의 게폐, 통전시 전기적 성질 및 기계적 성질은 접점의 미세조직에 크게 의존한다. 즉 최적의 접점 특성은 성분상의 균일 분포 및 W골 격의 강한 결합 상태에서 가능하다.
본 연구에서는 W-Cu접점제조에서 일반적으로 많이 이용되고 있는 용침법에 의한 접점제조과정에서 나타나는 미세조직의 변화를 미량 Ni첨가 및 W 입도를 변수로 하여 관찰하였다. 조직관찰에 앞서 기초연구로서 W-골격구조에 대한 미량 Ni의 효과 및 W-Cu 습윤거동에 관한 Ni의 영향등을 조사하였다. W성형체에 미량의 Ni 첨가는 W 입자의 구
The electrical and mechanical properties of W-Cu contact materials depend mainly on the microstructures of contacts, i.e. the best contact property can be obtained when the contacts have the homogeneous distribution of the constituent phases as well as the strong structure of W-skeleton. In this
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