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플라즈마 용사법으로 제작한 TiO2 반도체 피막의 응용
Application of Plasma Sprayed TiO2 Semiconductor Materials 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 경북대학교
KyungPook National University
연구책임자 박경채
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1993-02
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 경북대학교
KyungPook National University
등록번호 TRKO200200016325
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 플라즈마 용사.TiO2 코팅.전기전도도.광전극특성.결정구조.Plasma sprying.TiO2 coatings.electrical conductivity physical and chemical properties.oxegen concentration photocurrent.electrical resistivity.

초록

본 연구에서는 산업현장의 기술인 플라즈마 용사를 이용하여 TiO? 분말로 다결정체의 플라즈마 용사 TiO? 피막을 만들고, 플라즈마 용사조건 및 첨가물에 의해 변화하는 전기저항, 광전류, 산소농도, 결정구조 등을 세부적으로 조사하였다. 특히 플라즈마 용사분위기, 각종가스(수소), 첨가물의 관계를 구체적으로 검토하였다. 그결과 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. TiO? 플라즈마 용사피막의 탈리량은 용사분위기의 감압 정도가 커지고, 작용가스로서 수소량이 많아지면 더욱 많아졌다. 또한 전기전도도도 매우 증가함을 보였다.

Abstract

In this study an industrial coating technique, plasma spraying has also been used to produce TiO? polycrystalline coatings from TiO? powders. The physical and chemical properties of plasma sprayed TiO? coatings depend greatly on plasma spraying conditions, and so the electrical resistivity, oxyge

목차 Contents

  • I. 연구목적 ... 8
  • II. 연구내용 및 방법 ... 10
  • III. 실험결과 및 고찰 ... 15
  • IV. 결 론 ... 42
  • V. 인용문헌 ... 43
  • VI. 논문발표 계획 ... 44
  • VII. 연구비 항목별 사용내역 ... 45

참고문헌 (25)

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