초록

본 연구의 내용은 SiH₄을 이용한 몰리브덴 실리사이드 코팅층의 형성에 관한 연구이나 상기 실험을 위한 장비 제작과 실험조건 선정에 많은 노력이 소모되어 본격적인 실험은 수행되지 않았다. 따라서 본 보고서에서는 SiCl₄- H₂계를 이용하여 tube type의 hot-wall reactor에서 화학 증착법에 의한 몰리브덴 실리사이드 코팅처리시 코팅처리 변수들에 따라 형성된 코팅층의 미세조직 변화를 조사하여 SiH₄을 사용하여 구한 결과와 비교 분석하기 위한 기초자료를 얻었다.

Abstract ▼

Although tthe objective of this research is to study the coating of molybdenum silicide by low pressure chemical vapor deposition of SiH₄, main experiments were not performed because of the consumption of many times in the construction of LPCVD apparatus and determination of experinmetal conditions.

Although tthe objective of this research is to study the coating of molybdenum silicide by low pressure chemical vapor deposition of SiH₄, main experiments were not performed because of the consumption of many times in the construction of LPCVD apparatus and determination of experinmetal conditions. Therefore, we studied the effects of experimental variables (total flow rate of reactants, SiCl₄mole fraction, coating temperature, time, and pressure etc.) on the microstructures of coated molybdenum silicide layers in tube type hot-wall reactor.

목차 Contents

• 제 1 장 서 론...19
• 제 2 장 이론적 배경...23
• 제 3 장 실험 조건의 설정...35
• 제 1 절 열역학적 고찰...35
• 제 2 절 속도론적 고찰...39
• 제 4 장 실험 방법...44
• 제 1 절 Molybdenum Silicide 코팅을 위한 LPCVD장비의 설계 및 제작...44
• 제 2 절 몰리브덴 시편의 예비처리 및 코팅층 성장...48
• 제 5 장 결과 및 검토...50
• 제 1 절 반응기체 전체유량의 영향...51
• 제 2 절 SiCl₄몰분율의 영향...53
• 제 3 절 코팅압력의 영향...56
• 제 4 절 코팅처리 온도의 영향...59
• 제 5 절 코팅처리 시간의 영향...61
• 제 6 장 결 론...66
• 참고문헌...67