초록

본 연구에서는 다음과 같이 4분야의 연구를 대상으로 관련된 박막제조장치들을 사용하여 실험을 하고 그 결과들을 검토하였다.1. RF 스퍼터링조건이 순철의 박막특성에 미치는 영향2. TbFeCo합금 박막에서 조성 및 방출각도 분포에 미치는 타게트재료의 영향3. 대향타게트 스퍼터링으로 제조된 FeSi박막의 증착속도 및 두께 균일성에 미치는 스퍼터링조건의 영향4. 저압화학증착에서 10 torr 이상의 압력 증가가 W-증착현상에 미치는 영향

Abstract ▼

In this work the following 4 contents are experimentally examined and analysed.1. Influence of the RF sputtering condition on the thin film characteristics of pure iron.2. Influence of the target materials on the distributions of composition and ejection angle for TbFeCo alloy thin film.3. Influence

In this work the following 4 contents are experimentally examined and analysed.1. Influence of the RF sputtering condition on the thin film characteristics of pure iron.2. Influence of the target materials on the distributions of composition and ejection angle for TbFeCo alloy thin film.3. Influence of the sputtering condition on the deposition rate and the thickness uniformity in FeSi thin film made by facing target sputtering.4. Influence of the pressure increase above 10 torr on the W-deposition phenomena in the LPCVD.

목차 Contents

• 제 1 장 총 론...19
• 제 2 장 문 헌 조 사...21
• 제 3 장 RF스퍼터링조건이 순철의 박막특성에 미치는 영향...31
• 제 4 장 TbFeCo 합금박막에서 조성 및 방출각도 분포에 미치는 타게트재료의 영향...45
• 제 5 장 대향타게트 스퍼터링으로 제조된 Fe-Si박막의 증착 속도 및 두께 균일성에 미치는 스퍼터링 조건의 영향...54
• 제 6 장 저압화학증착에서 10 torr 이상의 압력 증가가 W-증착현상에 미치는 영향...66
• 제 7 장 건의사항...95