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산업용 플라즈마 진단기술 개발
A Study on the Plasma Diagnostics for Industrial Plasma Processing 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 성균관대학교
SungKyunKwan University
연구책임자 한전건
참여연구자 김용모 , 박헌규
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1998-12
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 성균관대학교
SungKyunKwan University
등록번호 TRKO200200054605
DB 구축일자 2013-04-18

초록

Pulsed DC 플라즈마를 이용한 플라즈마 질화 공정에서 Langnuir probe 및 OES를 이용하여 공정압력 1∼10 Torr의 압력범위와 Pulsed DC 전원의 frequency 및 duty ratio, bias voltage에 따른 질소 플라즈마의 특성과 혼합기체(N₂, H₂)의 부분압력 비에 따른 OES분석을 실시하였다. N₂+와 N₂에 대하여 플라즈마 질화 공정 조건별 질소 플라즈마의 거동에 관한 연구를 수행하였으며 Langmuir probe에 의한 플라즈마 parameter를 측정하였다. 또한 TCP(Transf

Abstract

Pulsed DC is widely used to control the hollow cathode discharge effect, and the main process variables on hollow cathode discharge effect are suggested to the size of the hole, the gas pressure and the plasma current density.In this study, we employed the pulsed DC plasma for the plasma nitriding o

목차 Contents

  • 표지...1
  • 제출문...2
  • 요약문...3
  • SUMMARY...4
  • 목차...6
  • 제1장 서론...7
  • 제2장 국내ㆍ외 기술개발 현황...9
  • 제3장 연구개발 수행 내용 및 결과...10
  • 제1절 질소의 여기(Excitation) 및 이온화(Ionization) 기구...10
  • 제2절 Hollow Cathode Discharge (HCD)...14
  • 제3절 Optical Emission Spectroscopy (OES)...17
  • 제4절 Langmuir probe 분석...27
  • 제5절 Laser Induced Fluorescence (LIF)...32
  • 제6절 플라즈마 질화...40
  • 제4장 연구개발 목표 및 달성도 및 대외기여도...64
  • 제5장 연구 결과의 활용계획...65
  • 제6장 참고문헌...66

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참고문헌 (25)

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