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이온 스퍼터링법에 의한 고경질 다이아몬드 박막 제조기술 개발 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국생산기술연구원
Korea Institute of Industrial Technology
연구책임자 고명완
참여연구자 김성영 , 신승용 , 변준 , 심경섭 , 허창우 , 김치영 , 구본웅 , 최석우
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1993-02
주관부처 산업자원부
사업 관리 기관 한국생산기술연구원
Korea Institute of Industrial Technology
등록번호 TRKO200200055852
DB 구축일자 2013-04-18

초록 ▼

본 연구과제에서 수행한 내용을 다음과 같이 요약할 수 있다.1) 대면적의 Si-Wafer 상에 증착을 행할 수 있는 이온 스퍼터링법에 관한 사전 조사 연구2) 러시아의 NPO "Vacuummashpribor" 연구소와 RF Magnetron Plasma Deposition & Sputtering 장치에 대한 공동 설계 ㆍ제작 및 실험수행 등에 관해 협조체계 체결3) Deposition과 Sputtering을 동시에 또는 병행하여 이용할 수 있는 장치의 설계ㆍ제작4) Magnetron 설계 기술의 습득5) 4"Si-Wafer 상에 균

목차 Contents

  • 제 1 장 서 론...9
  • 제 2 장 이 론...16
  • 제 1 절 Diamond와 DLC의 특성...16
  • 1. Diamond의 특성...16
  • 2. Diamond의 물성...19
  • 2-1 화학적 성질...19
  • 2-2 열적 성질...19
  • 2-3 전기적 성질...21
  • 3. DLC의 특성...21
  • 3-1 DLC의 경도와 내마모성...21
  • 3-2 DLC 박막의 마찰계수와 Layer geometry...23
  • 3-3 DLC 박막의 전기적 광학적 성질...23
  • 제 2 절 플라즈마 화학증착법에 이용되는 플라즈마 특성에 관한 고찰...24
  • 1. 플라즈마의 정의와 일반적 특성...24
  • 2. 이온과 라디칼의 상대 생성량...26
  • 3. RF Magnetron Sputtering 이란 ?...29
  • 3-1 Mechanisms of Sputtering...29
  • 3-2 Magnetron Sputtering...31
  • 4. 메탄(CH₄) 글로우 방전 플라즈마중의 반응 기구...35
  • 5. R.F. 방전의 특징...37
  • 제 3 절 Diamond상 탄소 박막의 형성...42
  • 제 3 장 R.F. Magnetron 플라즈마 장치의 설계 및 제작...45
  • 제 1 절 시스템 구성 개요...45
  • 1. 개발 장비의 구성...45
  • 2. 개발 장비의 중요 재원...45
  • 3. R.F. Magnetron Plasma 장치의 개략도...45
  • 제 2 절 반응 Chamber 시스템...51
  • 제 3 절 반응 가스 공급계...52
  • 제 4 절 진공계...56
  • 제 4 장 실험 방법...58
  • 제 1 절 시편 준비...58
  • 제 2 절 R.F. Magnetron 플라즈마에 의한 DLC 증착 방법...59
  • 제 5 장 실험결과 및 고찰...64
  • 제 1 절 반응기체 조성에 따른 증착층의 영향...64
  • 제 2 절 증착층의 물성 평가...69
  • 1. FTIR 분석에 의한 평가...69
  • 2. Ramann 분광분석에 의한 평가...71
  • 제 6 장 결론...73
  • 부록 : NPO "Vacuummasphribor" 연구소의 실험결과...76
  • 참고 문헌...83

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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