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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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연구책임자 | 홍국선 |
참여연구자 | 이중건 , 김동완 , 변태영 , 정현석 , 홍희범 , 이재연 , 김정렬 , 서희상 , 정현우 , 권도균 , 윤성준 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2001-08 |
주관부처 | 과학기술부 |
연구관리전문기관 | 서울대학교 Seoul National University |
등록번호 | TRKO200300000061 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
가. 산화분위기 875℃ 소성용 유전체 조성 및 첨가제 개발
- 유전율 대역별 유전체 주조성 개발(Alloy design)
- 첨가제 개발 : 저온소결조제/프릿
- 첨가제 분산·주조성 분쇄기술 : 원료/슬러리 제조·평가기술
- 테이프 기계적/전자기적 특성평가
- 벌크/테이프 특성 비교 분석
- 후막 공정 set -up
- 칩 안테나 reverse engineering
나. 계면반응 및 수축율 제어를 통한 전극과의 매칭 기술개발<
A. Development of dielectric ceramic compositions and additive for firing at 875℃ in air
- Development of main dielectric composition in the various range of dielectric constant(Alloy design)
- Development of additives : low sintering aids/frits
- Dispersion of additive, milling
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