최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 삼성전자(주) 종합기술원 Samsung Advanced Institute of Technology |
---|---|
연구책임자 | 박재찬 |
참여연구자 | 김민환 , 허남 , 조준형 , 이연수 , 지홍석 , 박현규 , 서승주 , 박준식 , 정성욱 , 송미정 , 김경희 , 심저영 , 김숙영 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2002-03 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 삼성전자(주) 종합기술원 Samsung Advanced Institute of Technology |
등록번호 | TRKO200300000094 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
첫째로, 원하는 특성을 갖는(해상도 <10㎛, mild한 조건에서 UV-light 노광시 산을 발생, thin coating) polymeric PAG(PPAG)의 합성과평가이다.
둘째는, photolithography를 이용한 in-situ DNA chip의 개발을 위하여 필요한 PNA monomer(A,G,T,C)의 합성 및 oligomerization 최적화이다. 이때 중요한 것은 Exocyclic amine은 염기에 labile하고 backbone의 amine은 산에 labile한 PNA monomer의 desig
1. Development of in-situ PNA Chip fabrication Process
(1) Development of Polymeric PAG which shows required performance
- Line Resolution < 10um,
- Generation of acid under mild condition upon exposure to the UV light(363nm)
- Thin coating
(2) Development of PNA monom
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.