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NTIS 바로가기주관연구기관 | 경희대학교 Kyung Hee University |
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연구책임자 | 장진 |
참여연구자 | 유건호 , 끌레베르 , 김영동 , 구민상 , 윤수연 , 임성훈 , 류재일 , 조봉래 , 정석재 , 원성환 , 조규식 , 박석훈 , 박성진 , 박영민 , 이용균 , 우인근 , 김경호 , 김아영 , 심성융 , 김도영 , 허근 , 유성렬 , 김경욱 , 김규만 , 문영희 , 정호영 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2002-03 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 경희대학교 Kyung Hee University |
등록번호 | TRKO200300000557 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. 1차년도('99)
1)저온 poly-Si 결정화 기술 확립ㆍAC field effect·금속(Co/Ni)량 의존도
2) 증착 poly-Si 증착 메카니즘 및 저온 공정·ICP-CVD 연구·He/H₂/Cl dilution effect·구조분석연구 (XRD, Raman, TEM, SEM, AFM)
3) 저온 도핑기술·가속전압, 도핑온도, 수소분압4) ICP-CVD 증착 장비 개선·저 ion damage 공정 확립·He dilution 효과
2. 2차년도('00)
1) 신기술에 의한 비정질 실리콘의 결정화
1.
1) Establishment of crystalization technique·AC field effect·Dependence of metal quantity
2) Understanding of poly-Si deposition mechanism·Study of ICP-CVD method·He/H₂/Cl dilution effect·Structural analysis (by using XRD, Raman, TEM, SEM, AFM)
3) Low temp.
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