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초소형 적층 칩 캐패시터 유전체 개발
Development of Dielectric Formulations for Miniaturized Multilayer Chip Capacitors 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
연구책임자 김윤호
참여연구자 오태성 , 김인태 , 이창봉
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1992-05
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200300003146
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 적층캐패시터.유전체.니켈내부전극.BaTiO₃.고체전해질.Multilayer Capacitor.Dielectrics.Ni Electrode.BaTiO₃.Solid Electrolyte.

초록

니켈 내부전극 적용 적층 캐패시터의 제조공정을 확립하기 위하여 아래와 같은 연구를 하였다.
첫째 내환원성 유전체와 관련하여 $BaTiO_3$의 4가 이온 site인 B-site를 2가 이온인 Ni로 치환하며 내환원성을 유지하며 Sr과 Zr을 Curie 온도의 shifter로 첨가한 새로운 유전체 조성을 개발하였다. NiO을 $BaTiO_3$ 세라믹스의 B-site에 0.01 mol 이상 첨가시 산소분압 $10^{-9}$ MPa의 환원분위기 소성시에도 $10^{

Abstract

To establish the fabrication process of multilayer ceramic capacitors with Ni internal electrode, the following have been investigated : Firstly, new dielectric formulations have been developed where $Ni^{2+}$ ions were subutituted to $Ti^{4+}$ sites of $BaTiO_3$ cer

목차 Contents

  • 제 1 장 서 론...18
  • 제 2 장 문헌조사...20
  • 제 1 절 세라믹유전체의 기계적 특성...20
  • 제 2 절 적층 캐패시터 결함...27
  • 1. 외부결함...27
  • 2. 내부결함...31
  • 제 3 절 열충격...35
  • 제 4 절 HALT...41
  • 제 5 절 비금속 내부전극 캐패시터의 퇴화기구...46
  • 제 3 장 실험방법...53
  • 제 1 절 제조공정...53
  • 1. 원료...53
  • 2. 조성...53
  • 3. 단판형 캐패시터 제조공정...54
  • 4. 적층 캐패시터 제조공정...56
  • 5. 소결분위기 조절...63
  • 제 2 절 특성분석...64
  • 1. 입도분포...64
  • 2. 미세조직 관찰...64
  • 3. X-선 회절분석...64
  • 4. 유전특성 분석...66
  • 5. 절연저항...66
  • 제 4 장 결과 및 고찰...67
  • 제 1 절 B-site Ni 치환 BaTiO₃ 세라믹스의 유전특성...67
  • 1. 소결밀도...67
  • 2. NiO 첨가가 유전특성에 미치는 영향...67
  • 3. NiO 첨가에 따른 격자상수의 변화...74
  • 4. B-site Ni 치환에 따른 절연저항의 내환원성...77
  • 5. NiO 첨가가 미세구조에 미치는 영향...79
  • 6. Sr 및 Zr 첨가에 따른 유전특성...85
  • 제 2 절 Ni 전극 페이스트에 따른 적층 캐패시터의 특성분석...102
  • 제 3 절 세라믹 테입의 밀도...105
  • 제 5 장 결론...111
  • 참고문헌...114

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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