초록 ▼

디스플레이 산업에서 사용되는 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide, ITO) 타겟(target)의 경우 제품의 30∼40% 정도만 사용되고, 나머지는 일본에서 재져되어 수입되거나, 폐기되어지고 있다. 세계 디스플레이 시장의 경우 국내 업체가 세계 40% 정도를 점유하고 있으며, 앞으로 TFT-LCD, PDP 뿐만 아니라 이동통신기기등에 의해서 ITO의 사용은 급격히 증가 될 것이다. 하지만 국내에서 폐타겟을 재생, 정제 생산 할 수 있는 곳은 전무하다. ITO target은 인듐(indium)성문이 90%정도이며. 현재 인듐

디스플레이 산업에서 사용되는 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide, ITO) 타겟(target)의 경우 제품의 30∼40% 정도만 사용되고, 나머지는 일본에서 재져되어 수입되거나, 폐기되어지고 있다. 세계 디스플레이 시장의 경우 국내 업체가 세계 40% 정도를 점유하고 있으며, 앞으로 TFT-LCD, PDP 뿐만 아니라 이동통신기기등에 의해서 ITO의 사용은 급격히 증가 될 것이다. 하지만 국내에서 폐타겟을 재생, 정제 생산 할 수 있는 곳은 전무하다. ITO target은 인듐(indium)성문이 90%정도이며. 현재 인듐의 양이 제한적인 생산으로 인해 원가상승을 야기하고 있다. 따라서 이러한 폐타겟의 재활용은 경제적으로나 환경적으로 매우 중요하다고 할 수 있다.
본 연구는 폐 ITO target으로부터 인듐산화물을 재생하기 위해 염산(HCl)과 질산(HNO₃)을 사용하였다. 염산만을 이용할 경우 침출(leaching)공정에서 폐타겟 전체가 침출되기 때문에, 1차 침전(precipitation) 과정을 통해 주석 성분을 제거하는 정제 공정이 필요하다. 그러나 1차 침전 정제시 많은 인듐손실(인듐 용해량 대비 30%)이 발생되고 세정과 여과시 수일의 공정시간이 소요되었다.
반면 질산을 이용할 경우 폐 ITO 타겟을 침출시키는 초기공정부터 주석산화물이 제거 되어 1차 침전 공정이 생략 되므로 인듐손실 없이 순도 99.9%이상, 회수율 99%정도의 고순도 인듐성분을 정제, 회수 할 수 있었다.침출공정으로 정제된 인듐성분 수용액을 99.99%이상의 고순도 원료로 정제하기 위해서는 유기용매를 사용하는 용매추출법을 사용하여 순도 99.99%이상, 회수율 90% 이상의 원료를 회수 할 수 있었다.
이러한 전체공정을 연속적인 파일럿 라인으로 설계하여 인듐산화물 3kg/lot 규모의 파일럿 라인을 설치하여 순도 99.99%이상의 회수율 90%정도의 인듐산화물을 정제, 회수하였으며 재생된 원료를 사용하여 ITO 타겟 및 ITO 원료등 시작품의 제작, 특성평가 하였다.

목차 Contents

• 표지...1
• 제출문...2
• 보고서초록...4
• 요약문...6
• SUMMARY...8
• CONTENTS...10
• 목차...12
• 제 1 장 연구개발과제의 개요...14
• 1 과제구성...14
• 2. 연구개발 배경 및 필요성...15
• 3. 연구개발 목표...16
• 4. 연구평가의 착안점 및 척도...18
• 5. 연구개발 추진체계...19
• 6. 추진전략 및 방법...20
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황...22
• 1. 국내 외 관련분야 기술개발 현황...22
• 2. 본 과제를 통한 연구결과의 차별성(독창성)...22
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과...23
• 1. 연구범위 및 연구수행 방법...23
• 2. 연구수행 내용 및 결과...25
• 3. 경제성 분석...97
• 제 4 장 연구개발목표의 달성도 및 대외기여도...99
• 1. 연구개발 목표의 달성도...99
• 2. 관련분야 기술발전에의 기여도...99
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획...100
• 1. 생산계획...100
• 2. 사업계획...100
• 제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보...101
• 제 7 장 참고문헌...102
• 특정연구개발사업 연구결과 활용계획서...104
• 첨부 1 연구결과 활용계획서...106
• 첨부 2 기술요약서...109