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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 김도경 |
참여연구자 | KatsutoshiKomeya , 김영구 , 김영관 , 박제형 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2003-06 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200400000009 |
과제고유번호 | 1350011109 |
사업명 | 국제공동연구사업 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
키워드 | 질화티탄.질화규소.in-situ 관찰.접촉 손상.접착 강도.TiN.Si₃N₄.in-situ observation.contact damage.adhesion strength. |
취성 박막 코팅층의 정확한 파괴 양상 분석을 목적으로 모델 기판 재료 및 산업적 응용 재료인 질화 규소를 이용하여 성공적으로 TiN 증착하였음.
TiN 증착은 빠른 증착 속도와 우수한 박막 제조가 가능한 음극 이온 플레이팅을 이용하였으며 증착시간을 변화시켜 1-5 μm 범위로 두께를 조절하였으며 기본 물성인 막의 균일성, 미세구조, 표면상태, 거칠기, 잔류응력, 시편 전체의 탄성 계수등을 측정하였음.
스크래치 시험 및 수직하중 인가 실험시의 in-situ 관찰용 광학 장비를 직접 설계 및 제작하였음.
적절한 모델 재
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