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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 이연희 |
참여연구자 | 한승희 , 조정희 , 임현의 , 김영우 , 권문희 , 이정혜 , 김용현 , 김영수 , 천혜진 , 홍주희 |
보고서유형 | 1단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2004-09 |
과제시작연도 | 2003 |
주관부처 | 과학기술부 |
과제관리전문기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200400001755 |
과제고유번호 | 1350020229 |
사업명 | 국가지정연구실사업 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 플라즈마이온주입.표면개질.고전압펄스.도핑.표면분석.PSII.surface modification.high voltage pulse.doping.surface analysis. |
○고전압 펄스 modulator 개발
- Capacitor bank와 4극 진공관을 switching tube로 이용한 hard tube type의 pulser 개발
- 100 ㎸, 60 A 인가 가능한 고전압 oil cooled feedthrough 설계 및 제작
○대출력 pulsed RF 발생기술
- 13.56 ㎒, 50 ㎾ peak RF, 2 ㎾ average RF power amplifier 설계 및 제작
- "ㄷ"자 형태의 2개 안테나 병렬 연결로 uniform한 플라즈마 발생
○PSII-c
To achieve the research goal of this study, a large-scale plasma source ion implantation system, plasma diagnosis system, and Ion Beam Assisted Deposition (IBAD) process system were developed and constructed. The plasma source ion implantation system for surface modification of polymer, semiconducto
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