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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
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연구책임자 | 김성주 |
참여연구자 | 김지홍 , 장성근 , 서동철 , 김기대 , 이해원 , 이석규 , 허정희 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-02 |
등록번호 | TRKO200500015951 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
초미세 가공기술의 지속적인 발전으로 반도체의 고집적도가 계속 증가하여 국내에서는 그동안 16M DRAM의 시험 제작에 성공하는 등 1992년에는16M DRAM이 생산될 전망이다.? 그러나 반도체의 고집적화에 필요한 레지스트 재료를 거의 일본, 미국 등에 의존하고 있는 실정이
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