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NTIS 바로가기주관연구기관 | 광주과학기술원 Gwangju Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 양민철 |
참여연구자 | 오재석 , 이해태 , 김관도 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1996-10 |
등록번호 | TRKO200500032237 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
기가급 이상의 초고집적 메모리를 갖는 반도체 소자의 제작공정 및 특성평가에 있어서는 그미세 구조 및 조성분석기술이 매우 중요한 역할을 차지한다. 특히 nanometer(nm) scale 크기를 갖는 구조의 제작은 차세대 메모리 소자의 제작은 물론 소위 양자효과라는 기존소자와는 전혀 다른 특성을 갖는 양자소자의 제작에 있어서도 매우 중요하다. 이러한 소자들은 초고속, 초고집적, 신 기능의 집적회로의 제작을 가능하게 하므로 차세대 정보처리 시스템의 구현을 가능하게 할 것으로 예상된다. 따라서 국내에서도 기존의 반도체 공정의 연장선상에
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