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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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연구책임자 | 서갑양 |
참여연구자 | 김재관 , 박지원 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2005-05 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술정보연구원 Korea Institute of Science and Technology Information |
등록번호 | TRKO200500066255 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
본 연구는 모세관 리소그라피를 이용한 100mn급 나노 구조를 4인치 웨이퍼위에 균일하게 얻을 수 있는 공정 모델링 과 이론적인 이해를 목표로 하였다. 기존의 모세관 리소 그라피 방법은 PDMS를 사용하였지만, 물질의 특성으로 resolution의 한계가 있었다. 따라서100n급 나노 구조물을 만들 수 있는 고분자 물질을 조사하였고, poly(methyl methacrylate) (thermoplastic), poly(urethane) (W curable polymer)를 이용하여 실험을 하였다.PMMA는 온도를 150도 정도로 가
Development of nanofabrication methods uSIng capillary force lithographyPhotolithography has been the main stay for nanofabrication for electronic and optical devices for the last few decades. Because of some intrinsic problems photolithography has for sub-100-nm patterning, there has been a growing
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