보고서 정보
| 주관연구기관 |
한국과학재단
Korea Science and Engineering Foundtion |
| 연구책임자 |
문대원
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| 참여연구자 |
빈수진
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| 보고서유형 | 최종보고서 |
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| 발행국가 | 대한민국 |
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| 언어 |
한국어
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| 발행년월 | 2003-01 |
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| 과제시작연도 |
2002 |
| 주관부처 |
과학기술부 |
| 연구관리전문기관 |
한국과학재단
Korea Science and Engineering Foundtion |
| 등록번호 |
TRKO200800067021 |
| 과제고유번호 |
1350003818 |
| 사업명 |
국책연구개발사업 |
| DB 구축일자 |
2013-04-18
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초록
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사업단의 연구 목표 달성을 위하여 사업단 차원의 기술 교류 및 연구 기획 및 추진 체계 추축 및 점검활동을 통하여 전체 사업단과 각 세부 과제의 연구 활동이 상호 보완적으로 추진되도록 하고 또한 각 세부 과제 수행에 있어 물리/재료간의 학제간 연구를 통하여 새로운 원천 기술의 개발을 추구할 수 있도록 사업단 차원의 1)물리/재료간의 학제간 연구의 활성화, 2)개발된 기술의 세계적 수준과 미래 원천성 추구, 3)개발된 기술의 국내 산업계 활용 가능성을 꾸준히 추구하도록 지원하기 위하여 사업다 차원의 기술 교류회, 최신 첨단 기술에 대
사업단의 연구 목표 달성을 위하여 사업단 차원의 기술 교류 및 연구 기획 및 추진 체계 추축 및 점검활동을 통하여 전체 사업단과 각 세부 과제의 연구 활동이 상호 보완적으로 추진되도록 하고 또한 각 세부 과제 수행에 있어 물리/재료간의 학제간 연구를 통하여 새로운 원천 기술의 개발을 추구할 수 있도록 사업단 차원의 1)물리/재료간의 학제간 연구의 활성화, 2)개발된 기술의 세계적 수준과 미래 원천성 추구, 3)개발된 기술의 국내 산업계 활용 가능성을 꾸준히 추구하도록 지원하기 위하여 사업다 차원의 기술 교류회, 최신 첨단 기술에 대한 초청 세미나 및 교육, 연구 기획 및 추진 체계 구축 및 점검활동이 주요 연구 내용이다.
Abstract
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Thin―film technology is pervasive in many applications, including microelectronics, optics, magnetics, hard and corrosion resistant coatings, micromechanics, etc.
Progress in each of these areas depends upon the ability to selectively and controllably deposit thin films (thickness ranging from te
Thin―film technology is pervasive in many applications, including microelectronics, optics, magnetics, hard and corrosion resistant coatings, micromechanics, etc.
Progress in each of these areas depends upon the ability to selectively and controllably deposit thin films (thickness ranging from tens of angstroms to
micrometers) with specified physical properties. This, in turn, requires control ―― often at the atomic level ―― of film microstructure and microchemistry.
Essential fundamental aspects, as well as the technology, of thin―film nucleation and growth from the vapor phase (evaporation, MBE, sputtering, and CVD) are discussed in detail and highlighted with “real” examples. The course begins with an introduction on substrate surfaces: structure, reconstruction, and adsorption/desorption kinetics. Nucleation processes are treated in detail using insights obtained from both in situ (RHEED, LEED, STM, AES, EELS, etc.) and post-deposition (TEM and AFM) analyses. The primary modes of nucleation include 2D (step flow, layer-by-layer, and 2D multilayer), 3D, and Stranski-Krastanov. The fundamental limits of epitaxy will be discussed as well as kinetic― and strain-induced self-organized surface roughening, islanding, quantum dot engineering, and superlattice formation.
목차 Contents
- 제1장 연구개발과제의 개요...6
- 제2장 국내외 기술현황...6
- 제3장 연구개발수행 내용 및 결과...6
- 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...9
- 제5장 연구개발결과의 활용계획...10
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